中國嗆荷蘭勿擋半導體出口:不會簡單嚥下這口氣

▲晶片、半導體。(圖/路透)

▲中企被控竊取半導體曝光機技術。(圖/路透)

文/中央社台北29日電

針對美日荷達成半導體設備出口管制協定,中國駐荷蘭大使談踐日前向當地媒體說,中方正盡最大努力與荷蘭溝通,不要執行相關協定,希望荷方對此事產生的負面影響「保持清醒認識」。

路透社報導,根據荷蘭金融日報(Het Financieele Dagblad)20日刊登的消息,談踐接受該報訪問時揚言,他不會去猜測(中國使出的)反制措施,但「中國不會簡單地嚥下這口氣」。

中國駐荷蘭大使館官網28日公布談踐接受金融日報採訪實錄,也提到上述內容。

根據實錄,談踐表示,「這並不意味著,我們(中國)會吞下苦果。如果造成損害,那麼我們當然會採取行動維護自身利益」。

談踐說,中方堅決反對這種行為。有關措施如果實施,將為中荷經貿合作和雙邊關係帶來負面影響。而目前荷方具體的出口限制只是一些架構原則,中方要求荷方提供更多訊息,雙方仍在對此進行磋商。

他提到,中方正在盡最大努力與荷蘭溝通,希望荷芳「不會採取這些措施(執行協定)」。

談踐聲稱,這項出口限制與國家安全無關,「事情的本質是美國向其盟友施壓以遏制中國」。

但對於荷蘭晶片設備製造商艾司摩爾(ASML)指控中國東方晶源公司涉嫌盜竊曝光機技術,中方是否展開調查,他則稱,「如果案件已提交法庭,我們將會進行調查」。

荷蘭政府3月初宣布,將進一步限制ASML旗下一些半導體設備的出口。除了最先進的技術外,低一檔的產品也被禁止出口。

AMSL當時表示,這意味著公司將無法在中國銷售自家第二先進的半導體技術,也就是深紫外光(Deep Ultraviolet)系列的曝光機。

ASML是歐洲最大半導體生產設備製造商,2019年以來一直被限制向中國出售其最先進,對製造某些先進晶片至關重要的極紫外光(Extreme Ultraviolet)曝光機;而美國2月間也與荷蘭、日本達成限制向中國出口先進晶片製造機具的協議,以削弱中國的晶片產能。

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